中国首台国产5纳米光刻机问世,突破半导体制造核心技术
近日,我国科技界传来振奋人心的消息,首台国产5纳米光刻机成功问世,标志着我国在半导体制造领域取得了重大技术突破。这一里程碑式的成果不仅彰显了我国科技实力的飞速提升,也为国家半导体产业的自主发展奠定了坚实基础。
2024-04-17
近日,我国科技界传来振奋人心的消息,首台国产5纳米光刻机成功问世,标志着我国在半导体制造领域取得了重大技术突破。这一里程碑式的成果不仅彰显了我国科技实力的飞速提升,也为国家半导体产业的自主发展奠定了坚实基础。
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